2010中國國際靶材應用及鍍膜工業展覽會定于2010年12月6日至8日在上海光大會展中心舉行。屆時，組委會將邀請眾多國內外靶材技術、產品、鍍膜設備、新材料等最新技術和產品將在會上展出。靶材及真空鍍膜應用半導體芯片制造、平板顯示器、太陽能、電池、微型元器件、玻璃鍍膜、裝飾材料功能鍍膜工業等各個行業。隨著材料表面技術的飛速發展，世界對靶材及鍍膜工業需求規模日益強盛。

　　展覽范圍

　　★靶材產品：

　　光學鍍膜材料、金屬膜料、合金靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材、鈦，鈮，鋯，鎳，鉭，鎢，鉬，鉿，鉻銀等單一金屬靶材、高純合金靶材、蒸發材料、濺射靶材、陶瓷靶材、特種靶材等各類靶材。

　　★鍍膜設備：

　　離子鍍膜設備、磁控鍍膜設備、磁控/蒸發兩用鍍膜設備、磁控卷繞鍍膜機、真空爐、真空鍍膜設備等各類鍍膜設備;鍍膜材料、輔料等.

　　★靶材設備：

　　冷等靜壓機，熱等靜壓機，高溫釬焊爐，燒結爐，中頻感應爐，電子束區熔爐，電子束熔煉爐，大面積靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等。